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FF14伊甸E9怎么打 普通E9打法機(jī)制圖文攻略

更新時(shí)間:2021-05-02 20:45

作者:匿名

FF14伊甸E9怎么打?國(guó)服5.4版本已經(jīng)正式開啟了。全新的伊甸希望樂園再生篇也正式上線了,還不是很了解普通難度的E9怎么打的小伙伴們,下面就一起來看看吧。

FF14伊甸E9怎么打 普通E9打法機(jī)制圖文攻略

E9普通難度通關(guān)攻略

普通難度的伊甸就沒有那么固定的時(shí)間軸了,對(duì)于團(tuán)傷也沒有什么特別的要求,基本上會(huì)機(jī)制就可以過了。

簡(jiǎn)易文字攻略

放射式波動(dòng)炮:全屏AOE

暗之戰(zhàn)技:隨機(jī)BOSS左側(cè)或右側(cè)的半場(chǎng)AOE,請(qǐng)根據(jù)BOSS舉起的光球方向判斷。

廣角式跳躍波動(dòng)炮:轉(zhuǎn)向一個(gè)玩家的120°AOE,走位躲避。

零式波動(dòng)炮:對(duì)MT釋放的直線激光死刑攻擊。MT開減傷吃,其他人不要跟MT站一條線上。

Empty Plane:將場(chǎng)地變?yōu)?X5的正方形,

黑暗天空:砸掉4個(gè)角落的正方形并令最中間的正方形變?yōu)檫M(jìn)入即死的陷阱區(qū)域。

從此刻開始,玩家被賦予不可跳躍的DEBUFF,場(chǎng)地的每塊有玩家的正方形會(huì)出現(xiàn)倒計(jì)時(shí)提示,踩在上面過久會(huì)直接摔死。一塊正方形里可以踩入多個(gè)玩家,但需要所有玩家都離開該正方形才會(huì)重置上面的倒計(jì)時(shí)??梢缘鹊匕逄崾咀兂杉t色再離開也來得及。

這期間,BOSS會(huì)使用Ground-razing Particle Beam(全屏AOE)和The Art of Darkness(半場(chǎng)AOE),請(qǐng)注意觀察和躲避。躲避的時(shí)候注意不要跑進(jìn)最中間的正方形里。

暗之森林:全屏AOE(無減傷約6w),并將場(chǎng)地恢復(fù)成原樣。

暗之泛濫黑暗森林:從場(chǎng)地中央向外側(cè)的擊退,同時(shí)外圍會(huì)有8個(gè)黃圈。開防擊退處理。別被擊退到黃圈里。

之后,黃圈上會(huì)生成藤蔓陷阱,每個(gè)陷阱與一個(gè)玩家連線。先稍稍靠近與自己連線的陷阱,等連線變成荊棘鏈(妖靈王同款)之后立刻跑遠(yuǎn)拉斷。

*如果不拉斷或者拉不斷陷阱,過一段時(shí)間后陷阱會(huì)強(qiáng)制將玩家捕獲至其中。配合半場(chǎng)AOE等其他技能可以秒殺玩家。

暗之戰(zhàn)技:半場(chǎng)AOE,請(qǐng)根據(jù)BOSS舉起的光球方向判斷。

廣角式跳躍波動(dòng)炮:Boss與一側(cè)場(chǎng)地外連2根線,一段時(shí)間后跳到該側(cè)場(chǎng)地邊緣中點(diǎn)并向場(chǎng)中央釋放120°AOE(無范圍提示)。請(qǐng)?zhí)崆芭艿皆搨?cè)場(chǎng)地邊緣躲避。

Rejuvenating Balm:以對(duì)立的場(chǎng)地兩側(cè)邊緣中點(diǎn)為圓心的大范圍圓形AOE。安全區(qū)是與他們垂直的中線上的一小塊區(qū)域,注意不要踩進(jìn)藤蔓陷阱。

黑暗天空:全屏AOE,并將場(chǎng)地恢復(fù)成原樣。

顆粒濃度:踩4個(gè)塔,一人一座。

暗之戰(zhàn)技:緊接踩塔之后的半場(chǎng)AOE,請(qǐng)根據(jù)BOSS舉起的光球方向判斷。

暗之大泛濫:再次將場(chǎng)地變?yōu)?X5的正方形,砸掉4個(gè)角和最中間一塊,剩下的有玩家的正方形會(huì)出現(xiàn)倒計(jì)時(shí)提示。

此時(shí)還會(huì)在場(chǎng)地兩側(cè)中點(diǎn)刷2個(gè)與BOSS連線的小怪。在小怪亮血條之前站在連線上可以讓小怪獲得加重DEBUFF,方便擊殺。小怪亮血條后請(qǐng)迅速轉(zhuǎn)火擊殺。

Summon:在場(chǎng)地邊緣召喚精靈,他們會(huì)對(duì)最外側(cè)的兩條(共6塊)正方形釋放直線AOE,同時(shí)BOSS會(huì)讀條Anti-air Particle Beam,進(jìn)行可見范圍的鋼鐵攻擊。兩者同時(shí)判定。

The Art of Darkness:緊接其后的半場(chǎng)AOE,請(qǐng)根據(jù)BOSS舉起的光球方向判斷。

Obscure Woods開始重復(fù),直到擊破

視頻攻略


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